某光电器件制造技术厂家因晶圆洗涤工艺产生含氨生活污水，排水量200吨/天。生活污泥中除挥发酚外还有氟化物和微量分析巨资属，操作難度大。场地污染物细则的要求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废渣部分及由来 晶圆清理生产废水（核心来历）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工序废水处理方法：含进样器铜、镍等高价属，pH值冲击大 CMP粉磨生产废水：含硅粒状及氧化还原电位 进行处理加工过程注意事项 通过"催化凝固+膜脱离+折点氯化"结构工艺设备： 预治疗 ：加药系统CaCl2除氟，操控pH在7.5-8. 反渗透装置系统性 ：清理0.01μm之上粒状物 反浸入果汁 ：将氧化还原电位浓缩咖啡至1000mg/L上述 折点氯化 ：正确调整氯加药量，将氧化还原电位转变为N2 铝离子对调 ：得到保障高价属未达标 结果是作用 高锰酸盐指数不稳＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属分子量不超过判断限 水使用率达75% 污泥干化会产生量极大减少40%